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산업용수처리
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작성일 : 17-12-27 13:26
[순수제조장치] 산업용수처리
 글쓴이 : 관리자
조회 : 808  
순수제조장치 (혼상식순수제조장치, 복상식순수제조장치, EDI UNIT)
원수에 함유되어 있는 유형무형의 불순물질을 강산성 양이온 교환수지(cation)를 이용하여 +ion을 제거하고, 강염기성 음이온 교환수지(anion)을 이용하여 -ion을 완전 흡착 제거하여 고순도의 순수한 물을 제조하는 장치로서, 재생에 의해 계속 사용할 수 있다
MIXED BED DEIONIZER SYSTEM (혼상식순수제조장치)
양이온교환수지와 음이온 교환수지를 단일 탑에 혼합하여 충진시킨 후 수중에 함유되어 있는 양이온과 음이온 성분을 완전히 제거하여 순수를 제조하는 장치로서 고순도의 순수를 얻을 수 있고, 공간을 적게 차지하며, 교환능력이 저하되면 가성소다(NaOH)와 염산(HcL)으로 재생을 하여 사용한다.
MODEL FLOW RATE Ion Resin
Volume
(Lilter)		 VESSEL
SIZE
(m/m)		 Hcl
TANK SIZE
(m/m)		 NaOH
TANK SIZE
(m/m)		 Pipe
Saze
(A)
M3/HR M3/Cycle CATION ANION Dia Height Dia Height Dia Height
SWMB -10 0.5 5.0 10 20 230 1.500 250 600 350 600 15
SWMB - 20 1.0

9.0

 20 40 300 1.500 250 600 380 600 15
SWMB - 25 1.2 12 25 50 330 1.830 300 600 400 600 20
SWMB - 30 2.0 20 30 60 350 1.830. 350 600 420 600 25
SWMB - 50 2.5 25 50 100 150 1.830 362 600 550 600 25
SWMB - 75 3.5 35 75 150 550 2.440 380 900 550 900 40
SWMB - 100 4.5 45 100 200 600 2.440 450 900 650 900 40
SWMB - 150 7.0 70 150 300 750 2.440 550 900 770 900 50
SWMB - 200 10 90 200 400 850 2.440 580 900 800 900 50
SWMB - 250 12 120 250 500 900 2.440 650 1.200 900 1.200 65
SWMB - 300 15 150 300 600 970 2.440 700 1.200 1.000 1.200 65
SWMB - 500 23 230 500 1.000 1.250 2.440 800 1.500 1.150 1.500 80
SWMB - 750 35 350 750 1.500 1.450 2.440 950 1.500 1.400 1.500 80
SWMB - 1.000 45 480 1.000 2.000 1.600 3.100 1.150 1.500 1.600 1.500 100
SWMB - 1.500 70 710 1.500 3.000 1.950 3.100 1.200 1.800 1.800 1.800 125
SWMB - 2.000 95 950 2.000 4.000 2.100 3.100 1.450 1.800 2.000 1.800 125
TWO-BED DEIONIZER SYSTEM (복상식순수제조장치)
양이온교환수지와 음이온교환수지를 각각의 탑에 이온교환수지를 충진하여 사용하는 장치로서 혼상식 순수장치에비하여 저순도이나 처리용량이 많은 곳에서 사용하는 장치이다. 원수를 양이온 교환수지탑을 통과시킨 후 탈기탑을 통과하여 탄산가스를 제거하고 음이온 수지탑을 통과시켜 순수를 얻는 장치이다. 교환능력이 저하되면 가성소다(NaOH)와 염산(HcL)으로 재생을 하여 사용한다.
MODEL FLOW RATE Ion Resin Volume
(Lilter)		 TANK SIZE(m/m)
CATION TOWER		 TANK SIZE (m/m)
ANION TOWER		 Pipe Saze
(A)
M3/HR CATION ANION Dia Height Dia Height
SWTB - 10 0.5 - 1.0 10 15 180 900 200 900 20
SWTB - 50 1.0 -2.5 50 75 300 1.200 380 1.200 25
SWTB - 100 2.5 -5.0 100 150 420 1.500 520 1.500 40
SWTB - 200 5.0 - 10 200 300 530 1.800 640 1.800 50
SWTB - 500 10 - 25 500 750 760 2.120 930 2.120 65 - 80
SWTB - 1.000 25 - 50 1.000 1.500 1.000 2.440 1.260 2.440 80 - 100
SWTB - 1.500 50 - 70 1.500 2.250 1.250 2.440 1.500 2.440 100
SWTB - 2.000 70 - 100 2.000 3.000 3.000 2.440 1.800 2.440 100 - 125
EDI UNIT (Electrodeionization)
EDI는 초순수 제조용 탈이온 장치로서 전기투석 장치의 희석실에 이온교환수지를 충진시킨 장치이다. 반응속도와 전력 소모에서 전기 투석법 보다 우수하기 때문에 낮은 전해질을 가진 수처리에 다양하게 응용되고 있다. 주로 전자 및 반도체회사의 초순수 생산 설비에 적용되어온 전기 탈이온 법은 기존의 이온 교환 수지를 사용하는 데미시스템(DEMI.SYSTEM)과 달리 전기적으로 이온을 제거하기 때문에 재생을 위하여 약품을 사용하지 않으며 이에 따른 재생폐액이 생성되지 않아 환경 친화적인 처리 방법이다.

순수제조장치는 원수의 수질조건, 순수 사용량, 현장여건을 파악하여 경제성을 검토하고 전처리/후처리 장치를 보완하여 설계하여야 한다.